福州船型開關(guān)摻雜的金剛石涂層可以提高電子產(chǎn)品

一個新的方法來創(chuàng)建薄膜的鉆石可能允許制造商提高未來的電子產(chǎn)品。

在工業(yè)生產(chǎn)中,鉆石特殊價值是硬度、光學(xué)清晰度、平滑度、抗化學(xué)物質(zhì)、輻射和電場。

電子應(yīng)用,研究者涂料鉆石為了讓他們導(dǎo)電,引入半導(dǎo)體硼金剛石制造過程。

它曾是一個挑戰(zhàn)與類金剛石品質(zhì)灌輸電子設(shè)備通過應(yīng)用摻雜金剛石涂層或薄膜因為高溫需要應(yīng)用一個摻雜金剛石薄膜會破壞敏感的電子產(chǎn)品,包括生物傳感器、半導(dǎo)體、光子和光學(xué)設(shè)備。

在一篇發(fā)表在《應(yīng)用物理快報》的一個研究小組在先進(jìn)的金剛石技術(shù)在伊利諾斯州Romeoville報告創(chuàng)建的薄膜在溫度足夠低的金剛石金剛石(介于460 - 600°C)外套許多這些設(shè)備。

而低溫沉積金剛石薄膜的鉆石不是概念上新,研究小組發(fā)現(xiàn)沒有證據(jù)表明在文學(xué)這樣的鉆石薄膜,都足夠的質(zhì)量和制造率足夠快是商業(yè)有用的。

調(diào)整自己的正常溫度硼摻雜配方均降低溫度和調(diào)整典型比甲烷制氫氣體產(chǎn)生了高質(zhì)量的電影沒有可察覺的變化在導(dǎo)電性或平滑比鉆石制作的電影在較高的溫度下。

研究人員說,需要更多的數(shù)據(jù)研究,更好地了解低溫的機(jī)會。即便如此,通過進(jìn)一步優(yōu)化配方,研究人員希望能夠沉積金剛石金剛石薄膜在低溫甚至低于400°C。

在一份聲明中Hongjun曾慶紅先進(jìn)的金剛石技術(shù)說,降低沉積溫度、數(shù)量較大的電子設(shè)備的應(yīng)用程序,我們可以啟用

這將進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品類別為薄、光滑、導(dǎo)電金剛石涂層。

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